コーニングの超低接着表面による三次元スフェロイドの形成
三次元スフェロイドの形成
さらに詳しくコーニングの超低接着表面は、細胞培養表面にハイドロゲルを共有結合させた独自の表面です。コーニングの超低接着表面は、親水性で電荷的に中性であり、そのコーティングは容器のポリスチレン表面と共有結合します。ハイドロゲルは、特異的または非特異的な固定化を抑止し、細胞を浮遊状態とし、三次元スフェロイドの形成を可能にします。コーティングは、安定で非細胞毒性、かつ生物活性がなく、生物分解を受けません。さまざまなカルチャーウェアに応用でき、プレートやディッシュ、フラスコ、CellSTACK®容器、 さらにはハイスループットスクリーニング(HTS)のスフェロイドのアプリケーション向けの96ウェルおよび384ウェルプレートがあります。
コーニングの超低接着表面は、細胞培養表面にハイドロゲルを共有結合させた独自の表面です。コーニングの超低接着表面は、親水性で電荷的に中性であり、そのコーティングは容器のポリスチレン表面と共有結合します。ハイドロゲルは、特異的または非特異的な固定化を抑止し、細胞を浮遊状態とし、三次元スフェロイドの形成を可能にします。コーティングは、安定で非細胞毒性、かつ生物活性がなく、生物分解を受けません。さまざまなカルチャーウェアに応用でき、プレートやディッシュ、フラスコ、CellSTACK®容器、 さらにはハイスループットスクリーニング(HTS)のスフェロイドのアプリケーション向けの96ウェルおよび384ウェルプレートがあります。