1960年代に要求の厳しい天文学のアプリケーション向けに発明された、ULE®ー超低膨張ガラスは、極端な温度変化に対して寸法変化がほとんどない安定したチタニアケイ酸ガラスであり、反射望遠鏡に最適な光学材料となっています。

193 nmから13.5 nmへのリソグラフィーの移行には、ステッパー光学製品を屈折性から反射性へと大幅に設計変更する必要がありました。主に直説法によって製造されるULE®ガラスの熱安定性は、現在、半導体チップ製造における極端紫外線リソグラフィー(EUV)に理想的な材料となっています。この安定性により、ULEガラスは、フォトマスク基板、マシンリファレンスブロック、ステッパー光学製品、計測学、および材料の寸法が変化すると性能と精度が損なわれる可能性のあるその他のプロセスなど、高精度の制御が不可欠なアプリケーションに最適です。コーニングは、60年以上にわたるULEガラス製造と相まって、ガラスの介在物と脈理のレベルを低減し続けるとともに、CTE(熱膨張係数)測定機能を向上させています。