Semiconductor Materials and Laser Optics | Semiconductor Lithography Optics | Corning

コーニングは、耐久性、高透過率、低熱膨張係数など特性を持った材料を提供しており、リソグラフィー装置の光源から半導体ウエハーウェーハに光を透過させるのに理想的な材料です。これにより、ナノメートルサイズまでの精密な形状が可能になります。

コーニングの各材料には、フォトリソグラフィープロセスの光をコントロール管理するのに役立つ独自の属性があります。コーニングのCaF2は、深紫外線レーザーの高エネルギーレベルに耐える比類のない耐久性を備えています。コーニングのHPFS®は、最も厳しいイメージング性能を持つ照明およびイメージング光学製品の製造に最適な超高純度材料であり、コーニングのULE®ガラスは、EUVステッパーの厳しい熱環境でもその形状とイメージング性能を維持できる超安定材料です。