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大型世代のガラス：
第5世代以降の基板は大型世代に分類される。大型世代の基板では、費用効率がかなり改善されており、基板一枚から取れるシートの枚数も増えている。大型世代の基板によって、顧客は一枚のシートからパネルをより多く取れるようになるだけでなく、大型のパネルを製造することもできるようになる。
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LCD（AMLCDも参照のこと）：
アクティブ・マトリクス液晶ディスプレイ（LCD）。画素ごとに一個のスイッチを使用することによって、高い解像度と高速レスポンスを実現するディスプレイ技術。薄膜トランジスタ（TFT）は、スイッチを利用したLCDの一つで、TFT-LCDとして知られている。この技術を基にしたディスプレイは、対角寸法が1インチから40インチにまで及ぶ。
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LCDモジュール：
薄膜トランジスタによるパッシブまたはアクティブ・マトリクス液晶ディスプレイ（TFT-LCD）で、バックライトやドライバ集積回路（IC）などの構成要素をすべて含み、テレビ、モニター、ノート型パソコン、またはその他の機器などの最終製品に一体化できるようになっているもの。この用語は、LCDパネルと同じ意味で用いられることがよくある。
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LCDパネル：
薄膜トランジスタによるパッシブまたはアクティブ・マトリクス液晶ディスプレイ（TFT-LCD）で、アレイ、カラーフィルタ、液晶が含まれている。バックライトやドライバ集積回路（IC）などの構成要素を含むこともあるが、ただ単にガラス－液晶複合材料を表すために用いられることもある。この用語は、LCDモジュールと同じ意味で用いられることがよくある。
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LCDプロジェクション：
対角寸法が2インチ以下の小型の薄膜トランジスタ－アクティブ・マトリクス液晶ディスプレイ（TFT-LCD）を画素として用いたプロジェクション技術。プロジェクション・ランプから出た光をスイッチングし、三つあるTFT-LCDのうちの一つで色をつけ、光学機器でそれらを組み合わせて一枚の画像にし、最終的にスクリーン上に投射する。これらを利用してリアプロジェクションTVやフロントプロジェクション・データ・プロジェクタを作ることもできる。
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LCoS
液晶オンシリコンの略。反射型マイクロ・ディスプレイの一種で、フロントプロジェクション・ディスプレイやリアプロジェクション・ディスプレイを製造する際に使用する。シリコンチップ上に薄膜トランジスタ（TFT）アレイが作られており、液晶層を追加してチップから反射する光を制御することにより、一枚のディスプレイになっている。LCoSプロジェクションには、他の構成要素として、カラーホイールまたはカラースクロール、光源、およびレンズアレイが必要である。
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寿命：
ディスプレイの耐久性の尺度で、新品のときに比べて、ディスプレイの明るさが半減するまでの使用時間で表現する。例えばディスプレイの定格寿命が50,000時間であれば、新品のときに比べて明るさが半減するまでの累積使用時間が50,000時間になる。大半のディスプレイは時間とともに徐々に劣化するが、新品のディスプレイと直接比較しない限り、さほど気にならない程度である。
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LTPS
低温ポリシリコン（LTPS）。レーザーまたはその他の温度の低いエネルギー源を用いてアモルファス・シリコンを結晶化し、ポリシリコン（p-Si）と呼ばれるより伝導度の高い状態にする。このポリシリコン層をフォトリソグラフィでパターン化して、薄膜トランジスタ（TFT）バックプレーンを作る。LTPSのバックプレーンで作ったアクティブ・マトリクス液晶ディスプレイ（LCD）は、アモルファス・シリコンのバックプレーンで作ったLCDよりも解像度が高くなり、アパチャー・レシオも改善される。バックプレーンにドライバ集積回路（IC）を一体化することにより、フォームファクタや品質をさらに高めることもできる。これは特に、携帯機器用の小型ディスプレイに便利で、パネルを小型化することによって小型・軽量の製品が可能になる。
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パッシブ・マトリクスLCD：
アクティブ・マトリクス液晶ディスプレイ（LCD）の前身。これらのディスプレイには、画素ごとに薄膜トランジスタ（TFT）やスイッチが内蔵されていない。その結果、アクティブ・マトリクス液晶ディスプレイに比べて解像度が低く、リフレッシュ速度が遅く、視野角も狭い。
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フォトリソグラフィ：
ディスプレイやマイクロプロセッサのトランジスタを製造するためのパターン化工程。基板上にシリコンの薄膜やその他の材料を蒸着して、光に反応する別の材料（フォトレジスト）で覆い、一層分のトランジスタのパターンが描かれたマスクを通して露光する。その後、露光した部分を、下にある薄膜と一緒にエッチングして除去する。フォトレジストを除去すれば、パターン化された薄膜ができあがる。別の薄膜でこれを何度か繰り返せば、トランジスタアレイが出来上がる。
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ピクセル：
「画像素子」の略語。ピクセルはディスプレイ上に表示される情報の基本単位である。色の異なるサブピクセルで構成されることもある。
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プラズマ：
気体プラズマを用い、蛍光体を励起して発光させる、放射型フラットパネル・ディスプレイ技術。大型ディスプレイ（通常は対角寸法が32インチ以上）に用いられるが、生産コストが高いため市場は限られている。プラズマ・ディスプレイ・パネル（PDP）とも呼ばれている。
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偏光子：
偏光することによって選択的に光を透過する材料。大半のアクティブ・マトリクス液晶ディスプレイ（LCD）では、液晶で偏光を操作するため、偏光子が極めて重要である。ツイストネマチック（TN）LCDには、通常、LCDセルの両側に複数の偏光子がある。
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Poly-crystalline silicon TFT-LCD
Type of thin film transistor- active matrix liquid crystal display (TFT-LCD) that uses transistors made from poly-crystalline silicon rather than amorphous silicon.
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投射（プロジェクション）：
1～3個の小さな、放射型、反射型、または透過型のディスプレイを用い、光学機器によって最終的なサイズに拡大された画像を表示するディスプレイ。プロジェクション・ランプが光源となり、スイッチングは小型のディスプレイで行われ、色は小型のディスプレイまたは色の異なる素子によって与えられる。放射型、透過型、反射型を参照のこと。
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ポリシリコン (p-Si)
多数のシリコングレインで構成されるシリコン膜。薄膜トランジスタ（TFT）の層として、大面積エレクトロニクスに利用される。
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p-Si向けガラス基板
ポリシリコン (p-Si)用ガラス基板は、アモルファス・シリコンに替わって、ポリシリコンTFTに供される。このガラス基板を使用することで、より高解像度、高機能で薄型軽量な携帯電話機が可能となる。